По-бързо от браузъра!
16 отношения: CVD, Intel, Pentium, Samsung, Процес на Чохралски, Плазмено ецване, Подложка (електроника), НАСА, Робърт Нойс, Транзистор, Фотолитография, Микроелектроника, Интегрална схема, Закон на Мур, Видим спектър, Йонна имплантация.
CVD
CVD (Chemical Vapor Deposition) (Химичното газово отлагане) е технология за химическо отлагане на материали в паро-газова среда при висока температура.
New!!: Планарна технология и CVD · Виж повече »
Intel
#пренасочване Интел.
New!!: Планарна технология и Intel · Виж повече »
Pentium
Pentium (произнася се Пе́нтиум) е търговска марка на няколко поколения микропроцесори от семейството с микроархитектура x86, произвеждани от Intel от 1993 година.
New!!: Планарна технология и Pentium · Виж повече »
Samsung
#пренасочване Самсунг Електроникс.
New!!: Планарна технология и Samsung · Виж повече »
Процес на Чохралски
Чохралски Процес на Чохралски e метод на израстване на кристали, използван за получаването на монокристали от полупроводници (силиций, германий или галиев арсенид), метали (паладий, платина, сребро, злато) или соли.
New!!: Планарна технология и Процес на Чохралски · Виж повече »
Плазмено ецване
Плазмено ецване е вид ецване – процес, използван за отнемане (премахване) на материал от повърхността на основа (подложка, пластина), чрез използване на плазма, създадена с кислород, аргон, тетрафлуорометан или други подходящи газове.
New!!: Планарна технология и Плазмено ецване · Виж повече »
Подложка (електроника)
Подложка Подложка (пластина) (wafer) е тънка пластина от полупроводников материал (например силиций) която се използва при производството на интегрални схеми и слънчеви батерии и други полупроводникови елементи.
New!!: Планарна технология и Подложка (електроника) · Виж повече »
НАСА
''„Синьото топче“'' е една от най-известните снимки на Земята. Заснета е от екипажа на Аполо 17 Първото изстрелване на ''Колумбия'' на 12 април 1981 Национално управление по въздухоплаване и изследване на космическото пространство, НАСА (National Aeronautics and Space Administration, NASA) е американска правителствена агенция, отговорна за националната програма за космически изследвания.
New!!: Планарна технология и НАСА · Виж повече »
Робърт Нойс
Робърт Нойс (Robert Noyce), наричан също „кметът на Силициевата долина“, е американски предприемач, съосновател на Fairchild Semiconductor през 1957 и на Интел през 1968.
New!!: Планарна технология и Робърт Нойс · Виж повече »
Транзистор
Няколко различни корпуси на транзистори Транзисторът (transistor) е полупроводников активен електронен компонент, който осъществява усилване, комутация и преобразуване на електрически сигнали.
New!!: Планарна технология и Транзистор · Виж повече »
Фотолитография
Схематично представяне на фотолитографския процес. Фотолитографията – е метод за получаване на рисунък върху тънък слой от материал, който се използва широко в микроелектрониката и в полиграфията.
New!!: Планарна технология и Фотолитография · Виж повече »
Микроелектроника
Микроелектрониката е област на електрониката, която е свързана с изучаването и производството на миниатюрни електронни компоненти.
New!!: Планарна технология и Микроелектроника · Виж повече »
Интегрална схема
Интегрална схема Atmel Diopsis 740 System on Chip (EPROM памет) с отвор в средата през който се вижда ИС. Отворът позволява съдържанието на паметта да бъде изтрито с ултравиолетови лъчи Интегрална схема (ИС, микрочип или чип) е електронна схема с миниатюрни размери, състояща се от полупроводникови устройства и пасивни компоненти.
New!!: Планарна технология и Интегрална схема · Виж повече »
Закон на Мур
Законите на Мур са емпирични закони, свързани с непрекъснатото усъвършенстване на производството на интегрални схеми.
New!!: Планарна технология и Закон на Мур · Виж повече »
Видим спектър
Видим спектър или видим диапазон на светлината се нарича онази част от електромагнитния спектър, която може да се възприеме от човешкото око.
New!!: Планарна технология и Видим спектър · Виж повече »
Йонна имплантация
Йонна имплантация е нискотемпературен метод за обработка на повърхностния слой на материалите, при който йони или йонизирани молекули, ускорени до определена енергия, се внедряват в подложка (мишена), променяйки по този начин нейните физически и/или химически свойства.
New!!: Планарна технология и Йонна имплантация · Виж повече »
